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中国芯片再爆好消息!国产光刻机迎来新突破:开始攻关65nm技术

  • 来源:互联网
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  • 2020-02-07
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原标题:中国芯片再爆好消息!国产光刻机迎来新突破:开始攻关65nm技术

众所周知,只要一说起台积电,相信大家也都是非常的熟悉了,作为全球芯片代工领域最强的芯片巨头,尤其是在高端芯片制造领域,一直以来都是处于垄断的地位,但实际上台积电之所以在芯片制造领域如此出色,很大程度上也是得到了ASML高端光刻机设备的支持,要知道在芯片制造整个流程中,光刻机光刻的过程几乎占到了40%甚至是更高的比例,这就不难看出,一台光刻机设备对于芯片制造多地有多么重要,但目前在光刻机设备领域中,我国自主研发的光刻机设备依旧相当的落后,目前过呢最强的光刻机技术依旧还停留在90nm芯片制造水平中,处于全球最低端的芯片制造水准。

但近日,我国光刻机研究终于传来了好消息,国内企业正在攻关65nm工艺的光刻机设备,目前已经取得了一定的进展,这意味着我国的光刻机设备也即将进入到中端市场领域,迎来了新突破,随着国产光刻机分辨率的提高,从90nm进入到65nm时代,也将会进一步缩小我们与ASML之间的差距;

但实际上,即便是国产光刻机能够攻克65nm技术难题,成功量产65nm光科技设备,但要知道我们国产光刻机目前依旧还是处于严重落后的地步,当然针对这种现象,实际上与我们在光刻机设备研发起步时间、技术、人才等等方面,也是有着直接的关联,例如在光刻机技术研发上起步较晚,同时还遭到了西方国家的技术封锁,在关键技术人才方面的积累较少等等,综合之下,也就直接造就了国产光刻机技术长期处于落后的态势之中;

而起步较早的ASML在光刻机设备领域,在2004年全球芯片制造工艺都进入到了全新的瓶颈期,而作为全球知名的芯片代工企业,为了能够进一步需求突破,所以也是联合了ASML,制造了一台以水为介质的光刻机设备,相对比过往以空气为介质的光刻机设备,在分辨率方面也是有着更加优异的表现,所以ASML也凭借这种以水为介质的浸润式光刻机设备,成为了全球最强的芯片设备制造企业,一举打败了当时日本尼康、佳能等知名企业,而台积电方面自然也是得到了ASML更多的关照,后来也直接奠定了台积电在芯片代工领域的霸主地位。

从ASML、台积电的发展轨迹,我们也不难看出,其实在光刻机设备、芯片代工企业之间,也是存在一种相互促进的作用,光刻机设备厂商通过与芯片制造厂商的深度合作,在芯片制造工艺、技术等方面,无疑也将会有更优的解决方案,所以看到这里,大家也就不难理解,为何国产高端光刻机设备技术会长期处于落后,很大程度上也是与国内没有先进的芯片制造企业有着很大的关联。

写在最后:随和中芯国际的不断突破,不断地缩小与台积电、三星之间的差距,未来或许也将会直接复制ASML、台积电这种“成功模式”,让国产光刻机以及芯片制造水平都得到极大的提升,让国产芯片实现真正的崛起。对此各位小伙伴们,你们怎么看呢?欢迎在评论区中留言讨论,期待你们的精彩评论!

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